Большой энциклопедический политехнический словарь - ионное легирование
Ионное легирование
ионное внедрение, введение посторонних атомов внутрь твёрдого тела (мишени) путём бомбардировки его поверхности ионами. Ср. глубина проникновения ионов в мишень тем больше, чем выше энергия ионов (ионы с энергиями 10 100 кэВ проникают на 0,01 1 мкм). И. л. наиболее широко используется при введении примесей в ПП монокристаллы для создания требуемой примесной электрич. проводимости. И. л. позволяет создать в ПП кристалле электронно-дырочный переход (см. р п-переход) на малой глубине, что увеличивает, напр., предельную частоту транзисторов. См. рис.
Установка для ионного легирования: 1 нить накала; 2 подача ионизируемого вещества; 3 анод; 4 магниты; 5 ускоритель ионов; 6 система электростатического отклонения; 7 мишень
Большой энциклопедический политехнический словарь
2004